CH49復(fù)合介質(zhì)電容器產(chǎn)品詳細(xì)說(shuō)明：

CH49復(fù)合介質(zhì)電容器采用金屬化紙膜作介質(zhì)制作而成,特殊噴金工藝,全密封金屬外殼,浸漬優(yōu)質(zhì)絕緣材料,損耗小,內(nèi)部溫升低,可靠性高,壽命長(zhǎng),適應(yīng)于激光儲(chǔ)能、電容式電焊機(jī)、充磁機(jī)等快速充放電電路中。

電壓范圍:1000V-2500V;
容量范圍:100μF-1000μF;
損耗角正切值:≤0.002(50Hz)